高纯铼溅射靶材 铼圆靶 铼方靶定制加工

• 品名：
  铼
• 杂质含量：
  0.01（%)
• 用途：
  溅射镀膜
• 密度：
  19-20

• 公司：
  湖南铼因铼合金材料有限公司
• 手机：
  18608419172
• 微信：
  18608419172
• 联系人：
  张亮
• 电话：
  073188590085
• 地址：
  湖南省长沙市长沙高新开发区麓云路100号兴工科技园10栋201室

铼靶材用于磁控溅射镀膜,磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相(PVD)镀膜方式,相比于蒸发镀膜方式,其在很多方面有相当明显的优势,作为一项已经发展得较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域,比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。

湖南铼因采用本企业生产的高纯金属铼粉可为用户专业生产加工各种规格溅射靶材,纯度高、密度高、致密均匀、晶粒细,具有优良导热性,从而保证靶材的高效率和高利用率。

规格:纯度Re≥99.99%~99.999%,形状、尺寸、密度接受各种定制产品。

铼方块

铼方块的分子式是Re,是纯铼金属经高温高压加工后具有一定形状的制成品,外观呈银色,通常以金属圆柱体为主,也可以是方块状。作为超级合金元素添加使用的铼锭,化学成分的纯度和致密状态是衡量其品质的主要参考指标。

应用:铼方块一般用作铸造超级合金的元素添加剂,用于高性能战斗机、大型飞机发动机关键构造部件,以及航天、军工武器装备制造领域的超高温合金零部件,以及其他耐高温领域。

铼片 铼板

应用:铼板主要用于高温、恶劣工况下的电极材料,在半导体和电子工业中用于制作电子管元件和超高温加热器以蒸发金属。这种高温加热部件需要在特殊条件下工作,相比其它材料,纯铼加热部件具有电学性能更优、寿命更长、更耐恶劣工作气氛的显著特点而受到用户的青睐;铼板带主要用于涂层与薄膜的化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)处理过程,包括热合电子束蒸发、低温有机蒸发、原子层沉积(ALD)及金属有机化学气相沉积(MOCVD)等;还应用于航空航天设备的部件制造。

技术规格:化学纯度Re≧99.99%(按差减法计算,气体元素除外),密度≧21g/cm3

尺寸:厚度1-20mm,宽度0.5-500mm,长度不限,可接受定制。

包装规格:塑料袋塑料瓶充惰性气体密封包装,外金属桶包装,每件净重20Kg,可遵客户要求特殊包装。