专利申请指南

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专利申请指南
申请发明或实用新型专利应提供技术交底资料,对技术方案的描述应“清楚、完整”,以所属技术领域的技术人员能够实现为准。技术交底资料一般应包括以下内容:
1、    名称和所属技术领域。
2、    背景技术:描述已有技术与本发明最相近似的实现方案,指出不足之处和缺点。
3、    发明内容:
(1)    发明目的
(2)    技术方案:它是专利申请的核心,是发明人对其要解决的技术问题所采取的技术措施的集合。必须完整地描述技术方案的技术特征,即提出关键创新点。
(3)    有益效果即是本发明或本实用新型的优点。
4、    附图说明:实用新型必须有附图,涉及装置或有形产品的,应有结构示意图,对附图作简略说明,根据专利申请内容,附图包括:机械结构图、电路图、流程图、框图等。
5、    具体实施方式:详细描写实现技术方案的优先方式,有附图的结合附图详细描述。如是装置的专利申请,则需描述具体结构特征,各组成部件的位置及连接关系;
电路产品:说明组成电路的基本单元及其工作原理,各单元电路的用途,各单元电路的连接关系(或输入输出关系),电信号的传递过程,通常应结合所提供的原理方框图或电路图进行描述。
含有程序的方法发明:该类申请包括解决特定技术问题的应用程序和计算方法硬件系统,应结合相关硬件,按相应的应用程序流程图来描述该程序所执行的各个功能,即实现各个功能的步骤等,可以设计相关的工艺参数、数学模型和操作条件。

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外观设计
应提交不得小于3厘米8厘米,并不得大于15厘米22厘米的图片或照片一式4份,图片或照片:需提供主视图、后视图、左视图、右视图、俯视图、仰视图以及使用状态图(立体图)。各图比例应一致。请求保护色彩的需提供彩色图片或照片。

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